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Halbleiter

Elektroindustrie

Halbleiter

Vakuumpumpen spielen eine entscheidende Rolle in der elektrischen Halbleiterindustrie, wo Präzision und Zuverlässigkeit entscheidend sind, um die Qualität der Endprodukte zu gewährleisten. Zu den führenden Unternehmen in diesem Bereich gehört PVR, dessen fortschrittliche Technologie und innovative Lösungen den Bereich der Vakuumpumpen revolutioniert haben. 

Die Funktionsweise der PVR-Vakuumpumpen basiert auf ausgeklügelten physikalischen Prinzipien, die es ermöglichen, Luft und andere Gase effektiv aus den Vakuumkammern zu entfernen. Diese Pumpen sind darauf ausgelegt, extrem hohe Vakua zu erzeugen, die für die Herstellung von hochwertigen Halbleitern unerlässlich sind. Eine der am häufigsten verwendeten Pumpenarten in dieser Branche ist die Molekularturbinenpumpe. Dieses Gerät nutzt die Rotationsgeschwindigkeit einer Reihe von Rotoren, um einen Gasfluss in radialer Richtung zu erzeugen, der die Gasmoleküle nach außen drückt und sie so abpumpen kann. Die Effizienz dieses Prozesses ist bemerkenswert, da er die vollständige Entfernung von Gasen gewährleistet und somit optimale Bedingungen in den Kammern aufrechterhält. 

Die Vakuumpumpen von PVR sind mit außerordentlicher Präzision konstruiert, um maximale Zuverlässigkeit und gleichbleibende Leistung auf lange Sicht zu gewährleisten. Dies ist besonders wichtig in der Halbleiterindustrie, wo selbst die kleinste Abweichung der Vakuumbedingungen die Qualität der Endprodukte beeinträchtigen kann. Dank ihrer fortschrittlichen Technologie bieten PVR-Pumpen eine genaue Vakuumkontrolle, die es den Halbleiterherstellern ermöglicht, während der Produktionsprozesse gleichbleibende Umgebungsbedingungen aufrechtzuerhalten. 

Ein weiteres wichtiges Merkmal der PVR-Vakuumpumpen ist ihre Fähigkeit, eine breite Palette von Gasen zu fördern, einschließlich korrosiver oder reaktiver Gase, die den Betrieb anderer Pumpen beeinträchtigen könnten. Diese Flexibilität ermöglicht es den Betreibern, die Pumpen an die spezifischen Anforderungen der Produktionsprozesse anzupassen und gleichzeitig eine hohe Zuverlässigkeit und Haltbarkeit zu gewährleisten. 

Neben ihrer Bedeutung in der Halbleiterproduktion finden PVR-Vakuumpumpen auch in vielen anderen Bereichen der Elektroindustrie Anwendung. Sie werden zum Beispiel in der Produktion von Plasmabildschirmen, Solarzellen und LED-Geräten eingesetzt, wo Qualität und Zuverlässigkeit gleichermaßen entscheidend sind. Darüber hinaus spielen die Vakuumpumpen von PVR eine wichtige Rolle in der wissenschaftlichen Forschung, wo sie Experimente und Studien ermöglichen, die extrem hohe Vakuumbedingungen erfordern. 

Ein weiterer Aspekt, den es zu berücksichtigen gilt, ist die Umweltverträglichkeit der PVR-Vakuumpumpen. Aufgrund ihrer hohen Effizienz und ihrer Fähigkeit, Gaslecks zu minimieren, tragen diese Pumpen dazu bei, den Gesamtenergieverbrauch und die Treibhausgasemissionen im Zusammenhang mit der Halbleiterproduktion und anderen industriellen Anwendungen zu reduzieren. Dies ist vor dem Hintergrund der wachsenden Besorgnis über den Klimawandel und die ökologische Nachhaltigkeit besonders wichtig. 

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Vakuumpumpen von PVR eine Schlüsselrolle in der elektrischen Halbleiterindustrie und vielen anderen industriellen Anwendungen spielen. Dank ihrer fortschrittlichen Technologie, Präzision und Zuverlässigkeit ermöglichen diese Pumpen den Herstellern, eine hohe Leistung und Qualität in ihren Produktionsprozessen aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus tragen sie dazu bei, die Gesamtumweltbelastung durch industrielle Tätigkeiten zu reduzieren, indem sie effiziente und umweltverträgliche Lösungen für das Vakuummanagement bieten.

EM – Pompe monostadio lubrificate monoblocco

EM 4-8


Grenzdruck:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar

EM 12-20


Grenzdruck:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
12.00 ÷ 21.00 m3/h

EM 28 - 40


Grenzdruck:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
28.00 ÷ 51.00 m3/h

EU/PVL – Pompe monostadio lubrificate

EU 45-65-105


Grenzdruck:
≤ 5.00 ÷ ≤ 10.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
48.00 ÷ 126.00 m3/h

EU 160-205-300


Grenzdruck:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
152.00 ÷ 360.00 m3/h

EU 650-1000


Grenzdruck:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
660.00 ÷ 1239.00 m3/h

PVL 15-35


Grenzdruck:
≤ 0.50 ÷ ≤ 20.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
17.00 ÷ 42.00 m3/h

PVL 401-541


Grenzdruck:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
417.00 ÷ 663.00 m3/h

EU OX – Pompe monostadio lubrificate per il trattamento O2

Ox Series


Pumpgeschwindigkeit:
18.00 ÷ 1239.00 m3/h

DRY C – Pompe per vuoto a camme

DRY C e CR Series


Pumpgeschwindigkeit:
60.00 ÷ 1140.00 m3/h

DRY C NEXT Generation Series


Pumpgeschwindigkeit:
150.00 ÷ 180.00 m3/h

DRY C – Compressori a camme

DRY C e CR P Series


Pumpgeschwindigkeit:
56.00 ÷ 600.00 m3/h
Drücke:
da 0.60 a ≤ 2.30 bar

Serie HV – Roots High Vacuum

GMa 10.0 HV - 11.4 HV


Pumpgeschwindigkeit:
180.00 ÷ 900.00 m3/h

GMa 12.5 HV - 13.8 HV


Pumpgeschwindigkeit:
1000.00 ÷ 3450.00 m3/h

GMb 14.9 HV - 17.15 HV


Pumpgeschwindigkeit:
3900.00 ÷ 18825.00 m3/h

Serie HV/Bp – Roots con By-Pass

GMa 11.3 HV/BP - 13.8 HV/BP


Pumpgeschwindigkeit:
500.00 ÷ 3420.00 m3/h

VD – Pompe a secco monoblocco

VD 3


Grenzdruck:
≤ 120.00 ÷ ≤ 150.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
3.00 ÷ 3.60 m3/h

VD 6 – 8


Grenzdruck:
≤ 120.00 ÷ ≤ 150.00 mbar
Pumpgeschwindigkeit:
6.00 ÷ 9.60 m3/h

VD 16 – 25 – 40


Pumpgeschwindigkeit:
16.00 ÷ 48.00 m3/h

MICRO – Mini pompe e compressori a membrana

M41


Grenzdruck:
≤ 40.00 ÷ ≤ 200.00 mbar
Drücke:
da 2.00 a ≤ 3.00 bar

M71


Grenzdruck:
≤ 15.00 ÷ ≤ 100.00 mbar
Drücke:
da 0.70 a ≤ 1.30 bar

Serie GV - GC

GV


Pumpgeschwindigkeit:
500.00 ÷ 4700.00 m3/h

GC


Pumpgeschwindigkeit:
500.00 ÷ 3465.00 m3/h