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Semiconductores

Industria eléctrica

Semiconductores

Las bombas de vacío desempeñan un papel crucial en la industria de semiconductores eléctricos, donde la precisión y la fiabilidad son fundamentales para garantizar la calidad de los productos finales. Entre las empresas líderes en este campo se encuentra PVR, cuya avanzada tecnología y soluciones innovadoras han revolucionado el campo de las bombas de vacío. 

El funcionamiento de las bombas de vacío de PVR se basa en sofisticados principios físicos que permiten eliminar eficazmente el aire y otros gases de las cámaras de vacío. Estas bombas están diseñadas para generar vacíos extremadamente altos, esenciales para la producción de semiconductores de alta calidad. Uno de los tipos de bomba más utilizados en esta industria es la bomba de turbina molecular. Este dispositivo utiliza la velocidad de rotación de una serie de rotores para crear un flujo de gas en dirección radial, empujando las moléculas de gas hacia el exterior de la cámara y permitiendo su bombeo. La eficacia de este proceso es notable, ya que garantiza la eliminación completa de los gases y mantiene así unas condiciones óptimas en el interior de las cámaras. 

Las bombas de vacío de PVR están diseñadas con una precisión extraordinaria para garantizar la máxima fiabilidad y un rendimiento constante a largo plazo. Esto es especialmente importante en la industria de semiconductores, donde incluso la más mínima variación en las condiciones de vacío podría comprometer la calidad de los productos finales. Gracias a su avanzada tecnología, las bombas PVR ofrecen un control preciso del vacío, lo que permite a los fabricantes de semiconductores mantener unas condiciones ambientales constantes durante los procesos de producción. 

Otra característica clave de las bombas de vacío PVR es su capacidad para manejar una amplia gama de gases, incluidos los corrosivos o reactivos que podrían afectar al funcionamiento de otras bombas. Esta flexibilidad permite a los operarios adaptar las bombas a las necesidades específicas de los procesos de producción, garantizando al mismo tiempo una gran fiabilidad y durabilidad. 

Además de su importancia en la producción de semiconductores, las bombas de vacío PVR encuentran aplicaciones en muchas otras áreas de la industria eléctrica. Por ejemplo, se utilizan ampliamente en la producción de pantallas de plasma, células solares y dispositivos LED, donde la calidad y la fiabilidad son igualmente cruciales. Además, las bombas de vacío de PVR desempeñan un papel clave en la investigación científica, facilitando experimentos y estudios que requieren condiciones de vacío extremadamente altas. 

Otro aspecto a tener en cuenta es el impacto medioambiental de las bombas de vacío de PVR. Gracias a su gran eficacia y a su capacidad para minimizar las fugas de gas, estas bombas ayudan a reducir el consumo total de energía y las emisiones de gases de efecto invernadero asociadas a la producción de semiconductores y otras aplicaciones industriales. Esto es especialmente importante en el contexto actual de creciente preocupación por el cambio climático y la sostenibilidad medioambiental. 

En conclusión, las bombas de vacío de PVR desempeñan un papel fundamental en la industria de los semiconductores eléctricos y en muchas otras aplicaciones industriales. Gracias a su avanzada tecnología, precisión y fiabilidad, estas bombas permiten a los fabricantes mantener un alto rendimiento y calidad en sus procesos de producción. Además, ayudan a reducir el impacto medioambiental general de las operaciones industriales proporcionando soluciones de gestión del vacío eficientes y sostenibles desde el punto de vista medioambiental.

EM – Pompe monostadio lubrificate monoblocco

EM 4-8


Presión límite:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar

EM 12-20


Presión límite:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar
Velocidad de bombeo:
12.00 ÷ 21.00 m3/h

EM 28 - 40


Presión límite:
≤ 2.00 ÷ ≤ 20.00 mbar
Velocidad de bombeo:
28.00 ÷ 51.00 m3/h

EU/PVL – Pompe monostadio lubrificate

EU 45-65-105


Presión límite:
≤ 5.00 ÷ ≤ 10.00 mbar
Velocidad de bombeo:
48.00 ÷ 126.00 m3/h

EU 160-205-300


Presión límite:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Velocidad de bombeo:
152.00 ÷ 360.00 m3/h

EU 650-1000


Presión límite:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Velocidad de bombeo:
660.00 ÷ 1239.00 m3/h

PVL 15-35


Presión límite:
≤ 0.50 ÷ ≤ 20.00 mbar
Velocidad de bombeo:
17.00 ÷ 42.00 m3/h

PVL 401-541


Presión límite:
≤ 0.50 ÷ ≤ 10.00 mbar
Velocidad de bombeo:
417.00 ÷ 663.00 m3/h

EU OX – Pompe monostadio lubrificate per il trattamento O2

Ox Series


Velocidad de bombeo:
18.00 ÷ 1239.00 m3/h

DRY C – Pompe per vuoto a camme

DRY C e CR Series


Velocidad de bombeo:
60.00 ÷ 1140.00 m3/h

DRY C NEXT Generation Series


Velocidad de bombeo:
150.00 ÷ 180.00 m3/h

DRY C – Compressori a camme

DRY C e CR P Series


Velocidad de bombeo:
56.00 ÷ 600.00 m3/h
Presiones:
da 0.60 a ≤ 2.30 bar

Serie HV – Roots High Vacuum

GMa 10.0 HV - 11.4 HV


Velocidad de bombeo:
180.00 ÷ 900.00 m3/h

GMa 12.5 HV - 13.8 HV


Velocidad de bombeo:
1000.00 ÷ 3450.00 m3/h

GMb 14.9 HV - 17.15 HV


Velocidad de bombeo:
3900.00 ÷ 18825.00 m3/h

Serie HV/Bp – Roots con By-Pass

GMa 11.3 HV/BP - 13.8 HV/BP


Velocidad de bombeo:
500.00 ÷ 3420.00 m3/h

VD – Pompe a secco monoblocco

VD 3


Presión límite:
≤ 120.00 ÷ ≤ 150.00 mbar
Velocidad de bombeo:
3.00 ÷ 3.60 m3/h

VD 6 – 8


Presión límite:
≤ 120.00 ÷ ≤ 150.00 mbar
Velocidad de bombeo:
6.00 ÷ 9.60 m3/h

VD 16 – 25 – 40


Velocidad de bombeo:
16.00 ÷ 48.00 m3/h

MICRO – Mini pompe e compressori a membrana

M41


Presión límite:
≤ 40.00 ÷ ≤ 200.00 mbar
Presiones:
da 2.00 a ≤ 3.00 bar

M71


Presión límite:
≤ 15.00 ÷ ≤ 100.00 mbar
Presiones:
da 0.70 a ≤ 1.30 bar

Serie GV - GC

GV


Velocidad de bombeo:
500.00 ÷ 4700.00 m3/h

GC


Velocidad de bombeo:
500.00 ÷ 3465.00 m3/h